納米碳纖維粉碎分散機(jī)，納米材料研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，碳纖維研磨分散機(jī)，納米碳纖維高速研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，SGN研磨分散機(jī)

SGN納米碳纖維粉碎分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

高速剪切研磨分散

設(shè)備可用于的納米材料的合成技術(shù)，可以極大的提高納米納米材料的比表面積，使之具有更好的催化性能。這種創(chuàng)新性化學(xué)氣體凈化材料，不同于活性炭等常規(guī)氣體過濾材料，納米凈化材料應(yīng)用新的催化氧化技術(shù)和化學(xué)吸附技術(shù)，能夠?qū)⑽廴疚?轉(zhuǎn)化成無害物質(zhì)。

高速剪切乳化設(shè)備用于增強(qiáng)、耐磨、導(dǎo)電等領(lǐng)域的瀝青基活性碳纖維產(chǎn)品的分散和破碎，這種材料可用于空氣凈化、水凈化、溶劑回收等環(huán)保領(lǐng)域的高效吸附材料。碳纖維具有高硬度，需要超高轉(zhuǎn)速的剪切乳化設(shè)備進(jìn)行粒徑的重整。
上海思峻提供國內(nèi)目前轉(zhuǎn)速z高的高速剪切乳化設(shè)備和錐體研磨設(shè)備，每分鐘轉(zhuǎn)速可達(dá)10000轉(zhuǎn)以上，同時(shí)剪切分散盤材質(zhì)采用陶瓷材料，可以*解決碳纖維等材料的破碎，長度縮小等功能。

上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出z終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 
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從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)z重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是z重要的

GMD2000選型表
 

• GRS2000小型納米白炭黑管線式分散機(jī)
• GMD2000蠕蟲膨脹石墨高剪切分散機(jī)
• GMD2000磷酸氫鈣混懸劑分散機(jī)
• GMD2000石墨烯富鋅底漆涂料分散機(jī)
• GMD2000納米金屬氧化物研磨分散機(jī)
• GRS2000納米白炭黑管線式分散機(jī)
• GMD2000光刻膠去除劑高剪切分散機(jī)
• GRS2000化學(xué)肥料高剪切乳化研磨分散機(jī)
• GMD2000藥用輔料硬脂酸鹽研磨分散機(jī)
• GRS2000磷酸氫鈣高剪切分散機(jī)